卧式真空镀膜机
卧式离子镀膜机
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钢管镀膜机
磁控溅射镀膜机
中频溅射镀膜机
中频离子镀膜机
离子溅射镀膜机
pvd真空镀膜机
真空电镀设备
优势：
?低运营成本和快的生产周期---的工业标准和竞争力的成本，材料和能源消耗低
?根据客户的生产需求---设计服务
?快速，灵活的生产周期以及灵活，多功能的生产系统，能够以市场上快的周期运行，并配有自动控制系统，可消除人为错误
?所有操作阶段均由具有自动存档和备份功能的pc进行管理，该pc提供实---告，系统和周期状态数据，在整个过程中通知和指导操作员 设备规格：型号tyws-3042h真空室尺寸ф3000×h4200mm真空室机构卧式结构配置抽气系统及水冷系统真空机组机械泵＋罗茨泵＋扩散泵/分子泵＋维持泵真空测量系统一台皮拉尼（mks） 一台冷阴极（mks）一台薄膜规（mks）镀膜系统电弧蒸发源、镀膜辅助离子电源充气系统流量计电源类型直流电源、中频电源、脉冲电源（偏压电源、弧电源）控制方式手动或全自动---真空指标5.0x10-4pa电弧源22台 - 28台200a - 300a偏压电源60kw/台工作转动方式多轴行星式公自转、变频调速（可控可调）工作烘烤温度常温-至450℃可控可调
a-镀膜室的内表面积，cm2;v-镀膜室的容积，cm3;ns-单分子层内吸附分子数，个/cm2;n-气相分子数，个/cm3
残余气体分子撞击着真空室内的所有表面，包括正在生长着的膜层表面。在室温和10-4 pa 压力下的空气环境中，形成单一分子层吸附所需的时间只有2.2 s。可见，在蒸发镀膜过程中，如果要获得高纯度的膜层，必须使膜材原子或分子到达基片上的速率大于残余气体到达基片上的速率，只有这样才能制备出纯度好的膜层。这一点对于活性金属材料基片更为重要，因为这些金属材料的清洁表面的粘着系数均接近于1。
在10-2 pa～10-4 pa 压力下蒸发时，膜材蒸汽分子与残余气体分子到达基片上的数量大致相等，这必将影响制备的膜层。因此需要合理设计镀膜设备的抽气系统，---膜材蒸汽分子到达基片表面的速率高于残余气体分子到达的速率，以减少残余气体分子对膜层的撞击和污染，提高膜层的纯度。
此外，广东电镀，在10-4 pa 时真空室内残余气体的主要组分为水蒸气(约占90%以上)，水气与金属膜层或蒸发源均会发生化学反应，生成氧化物而释放出氢气。因此，为了减少残余气体中的水分，纳米电镀设备，可以提高真空室内的温度，使水分解，也是提高膜层的一种有效办法。
还应注意蒸发源在高温下的放气。在蒸发源通电加热之前，可先用挡板挡住基片，然后对膜材加热去气。在正式镀膜开始时再移开挡板。利用该方法，可有效提高膜层的。
真空电镀蒸发是气体利用的什麽原理?
在高真空度的条件下，高纯度的镀层金属（如铝）在高温下蒸发后会自由地飞散开并沉降在工件表面，形成镀层。气为保护性气体，防止氧化反应影响镀层。
气在电镀过程中有何用?
气不参与反应，电镀材料，只是增加气压，---镀膜时靶的放电条件，气不是用于镀膜，主要用于创造镀膜的环境。氮气和气都是惰性气体，冲进去以后，一 可以排除氧气，防止氧化，二更具氮气和气在扩散泵内的含量比例不同，可以镀膜出不同的颜色.主要是为了改变镀膜出来产品的色彩.
真空镀膜行业中，气的流量大小具体如何控制?
如果是说镀膜时为了调节压力使用的气体 个人认为如下：气如果只是调节压力，一次压可以不计，但是二次压要小于0.5个---压。氮气也是，主要是因为如果大了，电镀设备，会导致真空仓内的压力变化太剧烈，导致误差。如果是使用离子源，那么气入气量不宜过大，大了导致离子量过大，烧坏部件。压力和上边没什么差别。
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