磁控溅射镀膜机-鼎益科技，鼎益真空-莱芜镀膜机

   蒸镀必须在一定的真空条件下进行，pvd镀膜机，这是因为：

       1、

       较高的真空度可以---汽化分子的平均自由程大于蒸发源到基底的距离。由于气体分子的热运动，分子之间的碰撞也是极其频繁的，所以尽管气体分子运动的速度相当的高 ( 可达每秒几百米 ) ，磁控溅射镀膜机，但是由于它在前进的过程中要与其它分子多次碰撞，莱芜镀膜机， 一个分子在两次连续碰撞之间所走的距离被称为它的自由程， 而大量分子自由程的统计平均值就被称为分子的平均自由程。

      由于气体压强与单位体积的分子数成正比， 因此平均自由程与气体的压强亦成正比。在真空淀积薄膜过程中，当淀积距离大于分子的平均自由程时被称为低真空淀积， 而当淀积距离小于分子的平均自由程时被称为高真空淀积。在高真空淀积时，蒸发原子 ( 或分子 ) 与残余气体分子间的碰撞可以忽略不计，因此汽化原子是沿直线飞向基片的，这样保持较大动能到达基片的汽化原子即可以在基片上凝结成较牢固的膜层。在低真空淀积时，真空镀膜机，由于碰撞的结果会使汽化原子的速度和方向都发生变化，甚至可能在空间生成蒸汽原子集合体—其道理与水蒸汽在---中生成雾相似。

       2、

       在较高的真空度下可以减少残余气体的污染在真空度不太高的情况下， 真空室内含有众多的残余气体分子( 氧、氮、水及碳氢化合物等 ) ，它们能给薄膜的镀制带来---的危害。它们与汽化的膜料分子碰撞使平均自由程变短；它们与正在成膜的表面碰撞并与之反应； 它们隐藏在已形成的薄膜中











逐渐侵蚀薄膜；它们与蒸发源高温化合减少其使用寿命；它们在已蒸发的膜料表面上形成氧化层使蒸镀过程不能顺利进行。

卷绕式镀膜设备 - ito膜卷绕式真空磁控镀膜机

设备特点：

ito薄膜是什么 :ito薄膜的特性及用途

ito薄膜是一种n型半导体材料，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和---的化学稳定性。接下来，详细为你说下ito薄膜是什么，ito薄膜的特性及用途。

一、ito薄膜是什么

ito薄膜是一种n型半导体材料，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和---的化学稳定性。它是液晶显示器（lcd）、等离子显示器（pdp）、电致发光显示器（el/oled）、触摸屏（touchpanel）、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极常用的薄膜材料。