a-镀膜室的内表面积,cm2;v-镀膜室的容积,cm3;ns-单分子层内吸附分子数,个/cm2;n-气相分子数,个/cm3
残余气体分子撞击着真空室内的所有表面,pvd电镀设备,包括正在生长着的膜层表面。在室温和10-4 pa 压力下的空气环境中,形成单一分子层吸附所需的时间只有2.2 s。可见,在蒸发镀膜过程中,如果要获得高纯度的膜层,必须使膜材原子或分子到达基片上的速率大于残余气体到达基片上的速率,只有这样才能制备出纯度好的膜层。这一点对于活性金属材料基片更为重要,因为这些金属材料的清洁表面的粘着系数均接近于1。
在10-2 pa~10-4 pa 压力下蒸发时,膜材蒸汽分子与残余气体分子到达基片上的数量大致相等,这必将影响制备的膜层。因此需要合理设计镀膜设备的抽气系统,---膜材蒸汽分子到达基片表面的速率高于残余气体分子到达的速率,以减少残余气体分子对膜层的撞击和污染,提高膜层的纯度。
此外,在10-4 pa 时真空室内残余气体的主要组分为水蒸气(约占90%以上),水气与金属膜层或蒸发源均会发生化学反应,生成氧化物而释放出氢气。因此,为了减少残余气体中的水分,可以提高真空室内的温度,使水分解,二手电镀设备,也是提高膜层的一种有效办法。
还应注意蒸发源在高温下的放气。在蒸发源通电加热之前,可先用挡板挡住基片,然后对膜材加热去气。在正式镀膜开始时再移开挡板。利用该方法,可有效提高膜层的。
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实验室镀膜设备-小型真空镀膜机小型实验用真空镀膜机主要用于科研、教学、化工、产品开发、手板制作等行业的涂层需要。小型实验真空镀膜机具有外形美观、结果紧凑、性能多样、操作简单、运行---、耗电量低等特点。可以实现蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、电弧镀膜、等工艺。半自动、全自动控制自由选择。
真空设备安装调试过程中的检漏步骤如下:1、
了解待检设备的结构组成和装配过程。掌握设备的要求,查明需要进行检漏的重点部位。
2、
根据所规定的大允许漏率以及是否需要找漏孔的具---置等要求,并从经济、快速、---等原则出发,正确选择好检漏方法或仪器,准备好检漏时所需的辅助设备后拟定切实可行的检漏程序。
3、
应对被检件进行好清洁工作,陶瓷电镀设备,取出焊渣、油垢后再按真空卫生条件进行清洁处理,并予以烘干。对要求高的小型器件。清洁处理后可通过真空烘干箱进行烘烤,进行清洁处理后不但可以避免漏孔不被污物、油、有机溶液等堵塞,而且也保护了检漏仪器。
4、
对所选用的检漏方法和检漏设备进行检漏灵敏度的校准,并确定检漏系统的检漏时间。
5、
若采用真空检漏法时,为了提高仪器的灵敏度,应尽可能将被检件抽到较高真空。
6、
在允许的前提下,应尽可能优先应用较为经济和现场具备条件的检漏方法。
7、
采用---质谱检漏设备检漏时,对于要求检漏不高的或有大漏产生的被检件时,在检漏初期应尽量用浓度较低的---气进行检漏,然后再进行小漏孔的检漏,电镀设备,以节约---气。
8、
对已检出的大漏孔及时进行修补堵塞后再进行小漏孔的检漏。
9、
对检出并修补的漏孔进行一次复查以---检漏结果达到要求。
真空镀膜机捡漏环节,是从设计、制造、调试、使用等,各个环节都需要进行的步骤,确一不可。
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