a-镀膜室的内表面积，中频离子镀膜机，cm2;v-镀膜室的容积，cm3;ns-单分子层内吸附分子数，个/cm2;n-气相分子数，个/cm3
残余气体分子撞击着真空室内的所有表面，包括正在生长着的膜层表面。在室温和10-4 pa 压力下的空气环境中，形成单一分子层吸附所需的时间只有2.2 s。可见，在蒸发镀膜过程中，如果要获得高纯度的膜层，必须使膜材原子或分子到达基片上的速率大于残余气体到达基片上的速率，卷绕式镀膜机，只有这样才能制备出纯度好的膜层。这一点对于活性金属材料基片更为重要，因为这些金属材料的清洁表面的粘着系数均接近于1。
在10-2 pa～10-4 pa 压力下蒸发时，膜材蒸汽分子与残余气体分子到达基片上的数量大致相等，这必将影响制备的膜层。因此需要合理设计镀膜设备的抽气系统，---膜材蒸汽分子到达基片表面的速率高于残余气体分子到达的速率，镀膜机，以减少残余气体分子对膜层的撞击和污染，提高膜层的纯度。
此外，在10-4 pa 时真空室内残余气体的主要组分为水蒸气(约占90%以上)，水气与金属膜层或蒸发源均会发生化学反应，生成氧化物而释放出氢气。因此，为了减少残余气体中的水分，可以提高真空室内的温度，使水分解，也是提高膜层的一种有效办法。
还应注意蒸发源在高温下的放气。在蒸发源通电加热之前，可先用挡板挡住基片，然后对膜材加热去气。在正式镀膜开始时再移开挡板。利用该方法，可有效提高膜层的。
真空蒸发镀膜机设备运行过程中，从膜材表面蒸发的粒子以一定的速度在空间沿直线运动，直到与其他粒子碰撞为止。在真空室内，当气相中的粒子浓度和残余气体的压力足够低时，这些粒子从蒸发源到基片之间可以保持直线飞行，否则，就会产生碰撞而改变运动方向。为此，增加残余气体的平均自由程，以减少其与蒸发粒子的碰撞几率，把真空室内---高真空是---的。
当真空容器内蒸发粒子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离(以下称蒸距)时，就会获得充分的真空条件。设蒸距(蒸发源与基片的距离)为l，并把l看成是蒸发粒子已知的实际行程，λ 为气体分子的平均自由程，设从蒸发源蒸发出来的蒸汽分子数为n0，在相距为l 的蒸发源与基片之间发生碰撞而散射的蒸汽分子数为n1，而且假设蒸发粒子主要与残余气体的原子或分子碰撞而散射，则有
n1/n0= 1- exp(l/λ) (1)
在室温(25℃)和气体压力为p(pa)的条件下，残余气体分子的平均自由程为
λ = 6.65×10-1/pcm (2)
由上式计算可知，在室温下，p=10-2 pa 时，λ=66.5 cm，即一个分子在与其它分子发生两次碰撞之间约飞行66.5 cm。
离子真空镀膜机在市场应用方面占据很大的比例，只要接触过真空行业的工作人员，绝大多数都听说过离子镀膜技术和离子真空镀膜机。我们日常生活息息相关使用的餐具、厨具、家居、玩具、日常装饰品等都有经过离子真空镀膜机镀过一层膜层，该技术和设备已经成为我们生活中的不可或缺间接性必需品，已经潜默移化的影响着我们生活方式，以及习惯。那么日常常用的那些离子真空镀膜机呢，以及具体应用到产品上，包括镀上一层膜后，会出现什么效果。鼎益科技为大家详细介绍
目前市面上，常把离子真空镀膜机，按照应用领域来分，常见的有：不锈钢板离子真空镀膜机、五金装饰离子镀膜机、瓷砖离子真空镀膜机、已经陶瓷离子镀膜机。应用的领域不一样，名称不太相同，但是镀膜原理大概类似，不过也有一些不同的差异。
例如瓷砖离子镀膜机，主要是用于瓷砖、瓷片、日用陶瓷制品(如歺具、文具)、工艺陶瓷(如花瓶、人物、观赏摆设)等，如餐具、茶具、咖啡具、酒具、饭具、文房用具等。在日用细瓷器、日用普瓷器、日用炻瓷器、骨质瓷器、玲珑日用瓷器、釉下(中)彩日用瓷器、日用精陶器等上获得广泛的应用。不锈钢离子镀膜机，不锈钢饰板离子镀膜机专为不锈钢饰板离子镀装饰膜层设计，离子镀膜层有真实的金属---，这是化学镀不锈钢彩板不能比拟的。
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