磁控溅射镀膜设备-镀膜设备-鼎益科技，鼎益真空

偏压电源在多弧离子和磁控溅射镀膜技术中都要使用。只是由于磁控溅射的离化率远低于多弧离子镀，所需偏压电源的功率更小。目前有许多设备既配备磁控溅射靶，也配有多弧靶，选择偏压电源功率时，要以多支工作时的要求来定。早期的偏压电压主要是用可控硅技术的直流偏压电源，现在多为采用高频逆变技术制造的单极性、直流叠加脉冲和双极性脉冲偏压电源。偏压电源主要用于多弧离子和磁控溅射镀膜过程中的辉光清洗、离子轰击和膜层沉积时在被镀工件上施加偏压，镀膜设备，在辉光清洗时，它产生辉光；在离子轰击中用于加速离子，提高离子轰击工件表面进的能量，达到溅射清洗效果和提高膜层结合力的目的，在膜层沉积时，它也用于增加离子能量，促进和---薄膜生长，也会提高膜基结合力，以下是几种常见波形的偏压电源：

     单极性脉冲偏压电源

     主要特点

     1.高频单极性脉冲偏压施压在工件上，磁控溅射镀膜设备，相比直流偏压而言，由于存在电压中断间隙，能有效减少打火次数，保护工件表面。

     2.脉冲间隙期间，工件表面积累的电荷可以被中和，从而减少了表面电荷积累引起的打火。

     3.高频逆变技术中的快速关断能力，能有效减少每次打火释放的能量，即使在打火出现时，也能明显降低工件表面大损伤程度。

     4.脉冲间隙期间沉积到工件表面的离子能量很低。

     5.可以通过调节频率、占空比要---和控制成膜速度和。