薄膜卷绕真空镀膜设备-鼎益科技，鼎益真空-真空镀膜设备

多弧离子镀膜机-阴极电弧离子镀膜设备

（阴极电弧）多弧离子镀膜的原理是基于冷阴极自持弧光放电等离子体蒸发、电离镀料，结合脉冲偏压技术，提高沉积粒子能量和活性，增强膜层的各项性能。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面上进行镀膜；可以镀金属膜，氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化铬及镍、铬、铜等化合物膜、多层超硬膜、多元化合物膜，还可以镀氮化钛掺金膜等。

（阴极电弧）pvd离子镀膜机是一种、无污染的真空镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。特点：

该系列设备用于不同---五金产品，配备脉冲偏压电源，可用于建筑五金件、锁具、不锈钢餐具、不锈钢散件等镀膜，根据装载量选用大小机型。优势：

?低运营成本和快的生产周期---的工业标准和竞争力的成本，材料和能源消耗低

?根据客户的生产需求---设计服务

?快速，灵活的生产周期以及灵活，多功能的生产系统，能够以市场上快的周期运行，并配有自动控制系统，可消除人为错误

?所有操作阶段均由具有自动存档和备份功能的pc进行管理，该pc提供实---告，系统和周期状态数据，在整个过程中通知和指导操作员应用：

用于金属、陶瓷、玻璃等材质表面镀制各种硬质金属膜、金属化合物膜及装饰膜。具有抽速快、真空稳定，装载量大、镀膜均匀性好的特点。广泛应用于手表、眼镜、产品、刀具、 模具、五金、玻璃、陶瓷、建材等行业表面处理，

　　a-镀膜室的内表面积，cm2;v-镀膜室的容积，cm3;ns-单分子层内吸附分子数，个/cm2;n-气相分子数，个/cm3

　　残余气体分子撞击着真空室内的所有表面，包括正在生长着的膜层表面。在室温和10-4 pa 压力下的空气环境中，形成单一分子层吸附所需的时间只有2.2 s。可见，在蒸发镀膜过程中，如果要获得高纯度的膜层，必须使膜材原子或分子到达基片上的速率大于残余气体到达基片上的速率，只有这样才能制备出纯度好的膜层。这一点对于活性金属材料基片更为重要，因为这些金属材料的清洁表面的粘着系数均接近于1。

　　 在10-2 pa～10-4 pa 压力下蒸发时，膜材蒸汽分子与残余气体分子到达基片上的数量大致相等，这必将影响制备的膜层。因此需要合理设计镀膜设备的抽气系统，---膜材蒸汽分子到达基片表面的速率高于残余气体分子到达的速率，以减少残余气体分子对膜层的撞击和污染，提高膜层的纯度。

　　 此外，在10-4 pa 时真空室内残余气体的主要组分为水蒸气(约占90%以上)，水气与金属膜层或蒸发源均会发生化学反应，生成氧化物而释放出氢气。因此，为了减少残余气体中的水分，薄膜卷绕真空镀膜设备，可以提高真空室内的温度，使水分解，也是提高膜层的一种有效办法。

　　还应注意蒸发源在高温下的放气。在蒸发源通电加热之前，真空镀膜设备，可先用挡板挡住基片，然后对膜材加热去气。在正式镀膜开始时再移开挡板。利用该方法，可有效提高膜层的。