高真空卷绕式镀膜设备 - 卷绕式蒸发镀膜机
鼎益真空机械设备生产的卷绕式真空镀膜设备具有高真空获得能力,能够进行pet、pi等柔性薄膜材料的---往复卷绕传输,通---机对话的形式来实现系统的工作数据显示、操作与控制,以实现真空系统的全自动预热操作,抽气和冷泵作业、红外线加热等。
设备特点:
本设备对柔性基体材料传动主辊、收卷辊、放卷辊的驱动装置采用司服电机进行调速,配合其张力传感器、来实现薄膜传输过程中收放卷卷绕的恒张力自动控制。本设备的镀膜主辊配备了-套快速的真空镀膜加热装置,纳米电镀设备厂家,该装置用于在进行真空镀膜操作时将镀膜主辊表面加热至镀膜工艺要求的温度,用以加热被镀的基体材料。本设备在真空工作室内装有一套大面积的低温冷冻盘管,利用进口低温深冷系统以抽除真空室水汽。主机含一套离子源系统,对膜层进行改性处理,含水冷和充气系统,均匀性高。可根据工艺要求配置mf孪和dc阴极系统。真空室的结构为一卧式半圆柱形简体,真空室整体采用304不锈钢制造。真空室正/反面各配有矩形观察窗1个,用以观察基体材料卷绕以及镀膜效果;侧面配有圆形观察窗可以辅助观察基体材料开卷及镀膜情况。卷绕系统由基体材料卷绕装置和移动动力小车等组成。基体材料卷绕装置由放卷装置、镀膜主辊、收卷装置和部分导辊以及安装这些辊系的大、小墙板等部件组件组成。采用司服电机进行调速,配合其张力传感器、来实现镀膜过程中收放卷卷绕的恒张力自动控制;系统带有基体材料预紧(防松卷)等功能。真空抽气系统采用分子泵、国产油扩散泵做为排气主泵,纳米电镀,---镀膜所需的的真空度。
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鼎益科技详细介绍一下pvd真空镀膜机镀膜行业五条基础知识。
一、pvd(物理气相沉积)技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于pvd技术的三个分类,相,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离,在电场的作用下,二手纳米电镀设备,使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。pvd镀膜与传统的化学电镀的相同点是,两者都属于表面处理的范畴,都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。两者的不同点是:pvd镀膜膜层与工件表面的结合力,膜层的硬度更高,耐磨性和耐腐蚀性---,膜层的性能也更稳定;pvd镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛,可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮;pvd镀膜不会产生有毒或有污染的物质。
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