真空电镀蒸发是气体利用的什麽原理?
在高真空度的条件下,高纯度的镀层金属(如铝)在高温下蒸发后会自由地飞散开并沉降在工件表面,形成镀层。气为保护性气体,防止氧化反应影响镀层。
气在电镀过程中有何用?
气不参与反应,只是增加气压,---镀膜时靶的放电条件,多弧离子镀膜机,气不是用于镀膜,主要用于创造镀膜的环境。氮气和气都是惰性气体,冲进去以后,一 可以排除氧气,防止氧化,二更具氮气和气在扩散泵内的含量比例不同,可以镀膜出不同的颜色.主要是为了改变镀膜出来产品的色彩.
真空镀膜行业中,气的流量大小具体如何控制?
如果是说镀膜时为了调节压力使用的气体 个人认为如下:气如果只是调节压力,一次压可以不计,但是二次压要小于0.5个---压。氮气也是,主要是因为如果大了,会导致真空仓内的压力变化太剧烈,导致误差。如果是使用离子源,镀膜机,那么气入气量不宜过大,大了导致离子量过大,烧坏部件。压力和上边没什么差别。
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陶瓷用品:瓷砖/马赛克/卫浴-真空镀膜设备陶瓷镀金设备主要用于瓷砖、瓷片、日用陶瓷制品(如餐具、文具)、工艺陶瓷(如花瓶、人物、观赏摆设)等离子镀膜。该系列真空镀膜设备配备全套推车,便于装卸。该设备生产无污染,符合标准,所镀膜层耐磨耐腐蚀,长久不脱落,对人体无害。采用贴花纸和涂覆水溶性涂料遮挡技术可以得到各种彩色花纹图案。
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磁控溅射电源
从输出波形看,伴随着磁控溅射技术本身的发展,经历了直流、单极性脉冲、对称双极性脉冲(中频磁控溅射电源)和双极性脉冲(非对称中频磁控溅射电源)几种方式。目前,新的磁控溅射电源基本上都采用高频逆变开关电源技术制造,中频磁控溅射电源已成为新的磁控溅射设备的电源。为了准确控制膜层厚度,磁控溅射电源必须稳定工作,并具有较好的恒定特性。目前,小型真空镀膜机,主要采用恒流方式,也有采用恒功率方式的,采用恒压方式。另外,磁控溅射镀膜技术具有的一个---优点是膜层致密、光洁度较好。要实现该优点,必须严格---磁控溅射过程中靶表面的打火次数和每次打火的能量,尽量减少打火瞬间造成的宏观靶材粒子数量,它们会降低膜层的致密性和光洁度,---时会造成掉膜。
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