ito薄膜的特性及用途
ito薄膜具有复杂的立方铁锰矿结构，其特性主要有：
1）导电性能好（电阻率可低达10-4ω·cm），带隙宽3.5~4.3ev，载流子浓度（1021cm-3）和电子迁移率（15~45cm2v-1s-1）较高；
2）在可见光波段透过率，可达85%以上；
3）对紫外线的吸收率较高，可达85%以上；
4）对红外线具有反射性，反射率高于80%；
5）对微波具有衰减性，衰减率可达85%以上；
6）膜层硬度高，真空电镀设备，耐磨，耐化学腐蚀（等除外）；
7）膜层具有---的酸刻、光刻性能，便于细微加工，可以被刻蚀成不同的电图案。
随着显示器件行业的飞速发展，对ito薄膜的产品性能特性提出了新的要求。同时ito薄膜制备技术的深入发展，电镀，使显示器件的需要变成可能。不同性能的ito薄膜可以在不同显示器件中的应用。
真空内镀设备-蒸发镀膜机-塑胶/玻璃灯罩 真空内镀设备
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内镀蒸发镀膜机
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内镀铝镜镀膜机
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灯罩内镀设备-蒸发镀膜机灯罩-杯具真空pvd内镀机：蒸发镀膜机是专为饰品、器件内镀膜研制。
pvd内镀蒸发镀膜机可以镀玻璃、陶瓷、塑胶等瓶状、罐状、球状的内壁。它是由真空室体、抽气系统、电控系统及蒸发等系统组成。多个被镀工件扣在装夹盘上，关上大门，快速抽气，在真空状态下，电阻加热蒸发金属膜料，蒸气凝结在工件内表面形成所需要的薄膜。真空蒸发镀膜设备(简称蒸镀)是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。真空蒸发镀膜技术投备与工艺相对比较简单，既可沉积非常纯净的膜层，二手电镀设备，又可制备具有特定结构和性质的膜层等，是当今非常重要的镀膜技术。双开门设计便于产品装载，一边门在生产的同时，另一边门可以进行装卸工作。
卷绕式镀膜设备 - ito膜卷绕式真空磁控镀膜机
设备特点：
ito薄膜是什么 :ito薄膜的特性及用途
ito薄膜是一种n型半导体材料，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和---的化学稳定性。接下来，详细为你说下ito薄膜是什么，ito薄膜的特性及用途。
一、ito薄膜是什么
ito薄膜是一种n型半导体材料，具有高的导电率、高的可见光透过率、高的机械硬度和---的化学稳定性。它是液晶显示器（lcd）、等离子显示器（pdp）、电致发光显示器（el/oled）、触摸屏（touchpanel）、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极常用的薄膜材料。
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