电弧离子镀膜中靶材蒸发和电离的实现必须依靠电弧电源提供能量,在实际镀膜过程中,该电源要能自动检测灭弧现象并自动引弧,---镀膜过程中的连续性和膜层的均匀性;此外,电弧电源的稳弧性能尤其是小稳弧电流对膜层的一致性、效率性和光洁度影响很大。一台多弧离子镀膜机所配电弧电源少则几台,多则十几台,甚至几十台。的工作对整台设备的性能---。电弧电源从传统电源式,经过采用可控硅技术,发展到现在的高频逆变式。
同传统电磁式和可控硅技术制作的电弧电源相比较,高频逆变电弧电源主要具有以下特点:
1. 体积缩小,盐城真空镀膜机,仅是旧式电源的几分之一;相应的电源重量也 仅是传统电源的几分之一到十几分之一。
2.电源效率明显提高,比旧式电源的效率大约提高20%∽30%左右。
3.操作轻便,电---节精度较高,稳流性能好,有利于控制膜厚及---膜厚的重复性。
4. 采用高频逆变方式的电弧电源纹波较小,加上其响应速度远远高于旧式电源,在相同弧源和工作条件下,使用高频逆变电弧电源有利于提高电弧的稳定性,减少灭弧次数。
立式双门:高真空蒸发镀膜机 蒸发镀膜机
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立式双门:高真空蒸发镀膜机
鼎益科技
可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。真空机组及电控系统也可根据用户要求进行设计配置。
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鼎益真空镀膜设备有:蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机 、磁控蒸发两用镀膜机 、多弧离子镀膜机 中频离子镀膜机 、af镀膜机、超硬质涂层镀膜机、卷绕式镀膜机、pvd镀膜线、镀膜项目配套总成。
pvd工艺技术采用在真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在工件表面沉积各种金属和非金属薄膜。
鼎益科技根据产品的特性匹配的镀膜工艺方案。鼎益真空镀膜机祖设备在行业优势特点所在:、诚信、---。
机械传动部分,涂层要求周边必须厚度均匀一致,因此,在涂层过程中须有三个转动量才能满足要求。即在要求大工件台转动(i)的同时,小的工件承载台也转动( ii),并且工件本身还能同时自转(iii)。在机械设计上,多弧离子真空镀膜机,一般是在大工件转盘底部中央为一大的主动齿轮,周围是一些小的星行轮与之啮合,如果要实现产品自转的话,中频离子真空镀膜机,一般用拨叉拨动工件自转。
七、加热及测温部分涂层设备一般有不同位置的加热器,用热电偶测控温度。但是,由于热电偶装夹的位置与工件位置不同,温度读数不可能是工件的真实温度。要想测得工件的真实温度,有很多方法,可以在工件上装高温试纸或热偶计。
八、离子蒸发及溅射源,玻璃真空镀膜机,多弧镀的蒸发源一般为圆饼形,俗称圆饼靶,也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁,通过前后移动磁铁,改变磁场强度,可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度,要给靶座不断通入冷却水。为了---靶与靶座之间的高导电、导热性,还可以在靶与靶座之间加锡垫片。磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。
九、水冷系统,一般由冷水塔,冰水机,水泵等组成
真空镀膜机必须由以上九个部件组成,每一个部件在机器里面都启动到了---的作用,缺一不可。
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