高真空卷绕式镀膜设备 - 卷绕式蒸发镀膜机
鼎益真空机械设备生产的卷绕式真空镀膜设备具有高真空获得能力，能够进行pet、pi等柔性薄膜材料的---往复卷绕传输，通---机对话的形式来实现系统的工作数据显示、操作与控制，以实现真空系统的全自动预热操作，抽气和冷泵作业、红外线加热等。
设备特点:
本设备对柔性基体材料传动主辊、收卷辊、放卷辊的驱动装置采用司服电机进行调速，配合其张力传感器、来实现薄膜传输过程中收放卷卷绕的恒张力自动控制。本设备的镀膜主辊配备了-套快速的真空镀膜加热装置，该装置用于在进行真空镀膜操作时将镀膜主辊表面加热至镀膜工艺要求的温度，用以加热被镀的基体材料。本设备在真空工作室内装有一套大面积的低温冷冻盘管，利用进口低温深冷系统以抽除真空室水汽。主机含一套离子源系统，对膜层进行改性处理，含水冷和充气系统，均匀性高。可根据工艺要求配置mf孪和dc阴极系统。真空室的结构为一卧式半圆柱形简体，真空室整体采用304不锈钢制造。真空室正/反面各配有矩形观察窗1个，用以观察基体材料卷绕以及镀膜效果;侧面配有圆形观察窗可以辅助观察基体材料开卷及镀膜情况。卷绕系统由基体材料卷绕装置和移动动力小车等组成。基体材料卷绕装置由放卷装置、镀膜主辊、收卷装置和部分导辊以及安装这些辊系的大、小墙板等部件组件组成。采用司服电机进行调速，配合其张力传感器、来实现镀膜过程中收放卷卷绕的恒张力自动控制;系统带有基体材料预紧(防松卷)等功能。真空抽气系统采用分子泵、国产油扩散泵做为排气主泵，---镀膜所需的的真空度。
a-镀膜室的内表面积，cm2;v-镀膜室的容积，cm3;ns-单分子层内吸附分子数，个/cm2;n-气相分子数，个/cm3
残余气体分子撞击着真空室内的所有表面，包括正在生长着的膜层表面。在室温和10-4 pa 压力下的空气环境中，形成单一分子层吸附所需的时间只有2.2 s。可见，在蒸发镀膜过程中，如果要获得高纯度的膜层，必须使膜材原子或分子到达基片上的速率大于残余气体到达基片上的速率，只有这样才能制备出纯度好的膜层。这一点对于活性金属材料基片更为重要，因为这些金属材料的清洁表面的粘着系数均接近于1。
在10-2 pa～10-4 pa 压力下蒸发时，膜材蒸汽分子与残余气体分子到达基片上的数量大致相等，这必将影响制备的膜层。因此需要合理设计镀膜设备的抽气系统，---膜材蒸汽分子到达基片表面的速率高于残余气体分子到达的速率，以减少残余气体分子对膜层的撞击和污染，提高膜层的纯度。
此外，在10-4 pa 时真空室内残余气体的主要组分为水蒸气(约占90%以上)，水气与金属膜层或蒸发源均会发生化学反应，生成氧化物而释放出氢气。因此，为了减少残余气体中的水分，镀膜设备，可以提高真空室内的温度，使水分解，也是提高膜层的一种有效办法。
还应注意蒸发源在高温下的放气。在蒸发源通电加热之前，可先用挡板挡住基片，然后对膜材加热去气。在正式镀膜开始时再移开挡板。利用该方法，可有效提高膜层的。
那么离子真空镀膜机应用到产品表面会出现什么效果呢？
给大家简单的举了几条例子：
使用的工艺和不锈钢离子镀膜机使用的工艺是一样的，但是不锈钢会多出一个偏压电源，因此也会有差别。因此都离子真空镀膜机，镀膜原理也会有差别。
手表：
的手表会在表带或者外壳堵上真金或者玫瑰金等来彰显---，利用离子镀膜技术镀出的膜层在强度性能上非常，且光泽度。
餐具：
离子镀膜机将钛合金镀膜于餐具上，pvd真空镀膜设备，提升了整体的---感。而大部分的钛合金不会对人体造成损害，可以说是非常健康和的材料。
模具：
对于很多产品的模具来说，本身需求有较高的强度和耐腐蚀性。所以需要离子镀膜机在外层镀膜，使得其硬度、强度、耐磨性和耐腐蚀性能得到一定的增强。
灯饰：
水晶类的灯饰配合离子镀膜技术带来的绚丽色彩，使得整体的灯光和装饰效果地富丽和优雅。且外层镀膜能使得灯饰性能趋于稳定。
陶瓷：
陶瓷本身具有一定的耐污性和耐腐蚀性性，离子镀膜机在外层再次镀膜的目的在于使得其光泽度和强度能够进一步增加。
离子真空镀膜机为什么应用范围那么广泛，真空电镀镀膜设备，以及市场占比那么高，陶瓷镀膜设备，都是有原因的。它不仅仅只是改变了产品外观，并且也改变了其使用性能，为我们生活提供了很大便利和，让我们生活更丰富多彩。
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