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用高能粒子轰击固体表面，固体表面的原子、分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞溅出来的现象称为溅射。溅射出来的原子具有一定的能量，它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜，二手真空镀膜设备，称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶材击出阴极靶材的原子或分子，飞向被镀基片表面沉积成薄膜。

         鼎益科技详细介绍一下pvd真空镀膜机镀膜行业五条基础知识。

       一、pvd(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于pvd技术的三个分类，相，五金真空镀膜设备，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。pvd镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。两者的不同点是：pvd镀膜膜层与工件表面的结合力，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性---，膜层的性能也更稳定;pvd镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮;pvd镀膜不会产生有毒或有污染的物质。